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J-GLOBAL ID:202102236805143482   整理番号:21A0217793

反応性スパッタリング法を用いた光導波路用SiCO薄膜の透明性向上

Transparency Improvement of SiCO Thin Film for Optical Waveguide with Reactive Sputtering Method
著者 (5件):
資料名:
巻: 140  号: 12  ページ: 369-373(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: L3098A  ISSN: 1341-8939  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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本研究では,反応性ガスとしてO2を用いた反応性スパッタリング法により,光導波路のためのSiCO薄膜の透明性を向上させた。酸素流量比(fo)が異なる10固の試料を作製した。foが増加すると,以下の効果が観察された:O2の増加,吸収係数の減少,光学ギャップの拡大,内部応力の緩和,屈折率の減少,および機械的強度(硬度およびYoung率)の低下。fo≦10%のとき,これらの依存性が強いことが分かった。fo=7%では,この薄膜は機械的強度,屈折率および光学ギャップ(1.80eV)が比較的高い。この場合,優れた光学的および機械的性質により,この薄膜を光導波路に適するようにする。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学 
引用文献 (19件):
タイトルに関連する用語 (4件):
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