文献

J-GLOBAL ID：202102258462035798   整理番号：21A0034311

Geドープマグネタイト薄膜におけるGe原子周辺の局所構造【JST・京大機械翻訳】

The local structure around Ge atoms in Ge-doped magnetite thin films

著者 (4件)： Shinoda Kozo ( Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Abe Seishi ( Research Institute for Electromagnetic Materials, Tomiya, Miyagi 981-3341, Japan) ,  Sugiyama Kazumasa ( Institute for Materials Research, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan) ,  Waseda Yoshio ( Research Institute for Electromagnetic Materials, Tomiya, Miyagi 981-3341, Japan)
資料名： High Temperature Materials and Processes  (High Temperature Materials and Processes)
巻： 39  号： 1  ページ： 645-662  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0384A  ISSN： 0334-6455  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネタイトとGeの複合ターゲットによる高周波スパッタリングにより作製したFe_2.64Ge_0.36O_4薄膜のスピネル型構造の四面体と八面体サイト間のGe原子の分布を,拡張X線吸収微細構造分析により調べた。Ge原子がスピネル型構造の四面体サイトに優先的に位置する焼結結晶Fe_2.7Ge_0.3O_4の局所構造の比較を通して,573Kと873Kでのアニーリングにより誘起された膜中のGe原子周辺の局所構造変化を議論した。この研究は以下のように薄膜の磁気特性による構造変化に関する成功した情報を提供する。Ge原子は,合成したままの膜の四面体および八面体サイトに統計的に分布し,磁化の増加に対応する873Kでのアニーリングによって四面体サイトを優先的に占有した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 磁化 ,  焼結 ,  焼なまし ,  *薄膜 ,  *磁鉄鉱 ,  磁気的性質 ,  *ゲルマニウム ,  EXAFS ,  X線吸収分光法 ,  四面体 ,  八面体
準シソーラス用語： スピネル型構造 ,  局所構造 ,  構造変化 ,  単結晶X線回折 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： サイト分布 ,  スピネル型構造 ,  X線吸収分光法 ,  単結晶X線回折

分類 (5件)： 金属,合金の化学熱力学(混合系)  (CB02032I) ,  液体金属の輸送現象  (BL06012R) ,  金属の機械的性質  (BL01022T) ,  防食  (WB03040M) ,  熱処理技術  (WC03020T)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ge ,  薄膜 ,  原子 ,  周辺 ,  局所構造