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J-GLOBAL ID：202102258923905975   整理番号：21A1821630

レーザ加熱におけるシロキサンガスのスメア成長【JST・京大機械翻訳】

Smear Growth of Siloxane Outgas at Laser Heating

著者 (4件)： Tani Hiroshi (Kansai University, Suita, Japan) ,  Tagawa Norio (Kansai University, Suita, Japan) ,  Lu Renguo (Kansai University, Suita, Japan) ,  Koganezawa Shinji (Kansai University, Suita, Japan)
資料名： ASME Conference Proceedings  (ASME Conference Proceedings)
号： ISPS2017  ページ： Null  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0478C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シロキサンガスは,磁気ヘッドスライダにスミアを引き起こすことはよく知られている。シロキサンガスはハードディスクドライブ(HDD)の特定の成分から蒸発し,磁気ディスク表面に吸着し,スライダとディスク接触でのフラッシュ温度によってシロキサンから変性したSiO_2をスライダ表面に蓄積した。一方,熱支援磁気記録(HAMR)は,面積密度を改善するために開発されている。HAMRでは,レーザ光は磁気ディスク表面を400~500Kに加熱する。ディスク表面に吸着されたシロキサンはレーザ加熱による熱蒸発と解離によりディスク表面から容易に脱着する。本研究では,レーザ加熱におけるシロキサンガスからのスミア成長を研究した。ディスク表面に吸着されたシロキサンはレーザ加熱スポットでディスク表面より上のガラス表面上で成長することを観測した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 円板 ,  ガラス ,  蒸発 ,  引火点 ,  *レーザ加熱 ,  レーザビーム ,  *シロキサン
準シソーラス用語： スライダ ,  ハードディスクドライブ ,  HAMR , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  記憶装置  (JC04060F)

タイトルに関連する用語 (2件)： レーザ加熱 ,  成長