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J-GLOBAL ID：202102261118365846   整理番号：21A0149960

Soak Annealプロセスにおける国内機械大規模生産の調査【JST・京大機械翻訳】

The Investigation of Domestic Machines Large-Scale Production in Soak Anneal Process

著者 (7件)： Yaoting Shen (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Lan Jiang (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Yan Gui (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Qingwei Dong (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Kechen Chen (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Xinhua Cheng (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210) ,  Jingxun Fang (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201210)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 浸漬およびスパイクアニールプロセスでは,適用材料バンテージファミリーツールは,28/40nmおよびそれ以上で広く使用されている。この種の国内機械は,まだ開発段階にあり,半導体産業において大きな可能性を持つ。国内ベンダーとして,Mattsonは急速熱プロセス(RTP)のためにHelios XPを導入した。本論文では,Mattson Helios XPについて,浸漬アニールプロセスに関する温度プロファイルを収集した。さらに,シート抵抗,酸化物厚さ,デバイスデータおよび収率も,ブランケットウエハおよびパターンウエハの両方で調べた。結果は,Mattson Helios XPの性能が,適用材料の利点ツールに匹敵することを示した。したがって,国内機械としてのHelios XPは,大規模工業生産のために28/40nmノードでの浸漬アニーリングに適用できる。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 温度分布 ,  *焼なまし ,  酸化物 ,  ブランケット ,  浸漬 ,  半導体工業 ,  工業生産 ,  シート抵抗
準シソーラス用語： アニール過程 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (3件)： プロセス ,  大規模 ,  調査