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J-GLOBAL ID：202102278168360374   整理番号：21A0144650

X線反射率測定により明らかにした単分子層有機単結晶半導体による物理吸着van der Waals界面におけるサブ分子構造緩和【JST・京大機械翻訳】

Sub-Molecular Structural Relaxation at a Physisorbed van der Waals Interface with Monolayer Organic Single-Crystal Semiconductors Revealed by X-Ray Reflectivity Measurements

著者 (10件)： YAMAMURA A. (Univ. Tokyo) ,  YAMAMURA A. (AIST) ,  FUJII H. (Osaka Univ.) ,  FUJII H. (Tohoku Univ.) ,  WAKABAYASHI Y. (Tohoku Univ.) ,  WATANABE S. (Univ. Tokyo) ,  WATANABE S. (AIST) ,  TAKEYA J. (Univ. Tokyo) ,  TAKEYA J. (AIST) ,  TAKEYA J. (NIMS)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2020-3  ページ： 22-23 (WEB ONLY)  発行年： 2020年10月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

引用文献 (8件)：

• A. Yamamura, S. Watanabe, M. Uno, M. Mitani, C. Mitsui, J. Tsurumi, N. Isahaya, Y. Kanaoka, T. Okamoto and J. Takeya, Sci. Adv. 4, eaao5758 (2018).
• A. Yamamura, T. Sakon, K. Takahira, T. Wakimoto, M. Sasaki, T. Okamoto, S. Watanabe and J. Takeya, Adv. Funct. Mater. 30, 1909501 (2020).
• T. Okamoto Polymer Journal 51, 825 (2019).
• J. Tsurumi, H. Matsui, T. Kubo, R. Häusermann, C. Mitsui, T. Okamoto, S. Watanabe and J. Takeya, Nat. Phys. 13, 994 (2017).
• Y. Wakabayashi, J. Takeya and T. Kimura, Phys. Rev. Lett. 104, 066103 (2010).

タイトルに関連する用語 (9件)： X線反射率測定 ,  単分子層 ,  単結晶半導体 ,  物理吸着 ,  VAN ,  界面 ,  サブ ,  分子構造 ,  緩和