特許
J-GLOBAL ID:202103001883379729

基板洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  大野 浩之 ,  森田 耕司 ,  津田 理 ,  松野 知紘 ,  酒谷 誠一 ,  佃 誠玄 ,  野本 裕史
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-086291
公開番号(公開出願番号):特開2017-195335
特許番号:特許第6933448号
出願日: 2016年04月22日
公開日(公表日): 2017年10月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 洗浄液を供給する供給部と、 前記供給部から供給された洗浄液を基板に供給する供給体と、 前記供給体内に設けられ、前記供給部から供給される洗浄液に超音波振動を与える振動部と、 を備え、 前記供給体は、洗浄液が通過する際に洗浄液に超音波振動を与える前記振動部に対向する振動対応位置を通過した後の前記洗浄液が流れ込む膨張部を含む案内部を有し、 前記洗浄液の存在下で基板表面をスクラブ洗浄する洗浄部材とともに前記供給体が洗浄液を基板に供給する際に、基板上の除去すべき不純物の大きさに対応させて、前記振動部が、第一周波数の超音波振動及び該第一周波数の超音波振動より小さい第二周波数の超音波振動を前記振動対応位置で前記洗浄液に選択的に与えるように構成されたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1件):
H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01L 21/304 643 D
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭56-060677
  • 特開平3-047578
  • 洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-282695   出願人:エムケー精工株式会社
全件表示

前のページに戻る