特許
J-GLOBAL ID：202103002830375248
酸化物薄膜形成方法及び酸化物薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-021143
公開番号（公開出願番号）：特開2017-137550
特許番号：特許第6813824号
出願日： 2016年02月05日
公開日（公表日）： 2017年08月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ナノ粒子表面に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜形成方法であって、
金属容器内に前記ナノ粒子を載置する処理容器を設けると共に当該処理容器内に載置したナノ粒子を物理的に攪拌する攪拌手段を設け、この処理容器の底面の下方に電極を前記底面の面方向に亘って部分的に複数個設け、
一方、前記金属容器には、前記金属容器内のガスを排気できる排気手段と、前記金属容器内に有機金属ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、前記金属容器内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段とを連結し、
前記処理容器内に前記ナノ粒子を載置し、前記電極に前記金属容器を基準として電圧を印加しながら、前記攪拌手段により間欠的又は連続して攪拌し、
(1)前記有機金属ガス導入手段により、前記金属容器内に前記有機金属ガスを導入する工程と、
(2)前記排気手段により、前記金属容器内の前記有機金属ガスを排気する工程と、
(3)前記加湿ガス導入手段により、前記金属容器内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、
(4)前記排気手段により、前記金属容器内の前記励起された加湿ガスを排気する工程と、
を実行し、(1)〜(4)の工程を繰り返すことで、前記ナノ粒子の表面に酸化膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜形成方法。
IPC (3件)：
C23C 16/455 ( 200 6.01)
, C23C 16/40 ( 200 6.01)
, C23C 16/458 ( 200 6.01)
C23C 16/455
, C23C 16/40
, C23C 16/458
