特許
J-GLOBAL ID：202103003087305961

プラズマ処理装置の運転方法

発明者：
高妻 豊

高妻 豊 について

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小林 浩之

小林 浩之 について

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三好 信哉

三好 信哉 について

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横川 賢悦

横川 賢悦 について

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渡辺 智行

渡辺 智行 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテク

株式会社日立ハイテク について


代理人 (2件)： 井上 雄 ,  岩崎 重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-188983
公開番号（公開出願番号）：特開2018-056248
特許番号：特許第6827287号
出願日： 2016年09月28日
公開日（公表日）： 2018年04月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 内側が減圧される真空容器と、この真空容器内部に配置され処理対象のウエハが配置されて処理される処理室及びこの処理室上方に配置されその内部に供給された処理用のガスを用いてプラズマが形成されるプラズマ形成室と、前記処理室内側でその下部に配置され前記ウエハが上面に載せられる試料台と、この試料台の上面の上方の前記真空容器内であって前記処理室と前記プラズマ形成室との間に配置され前記プラズマの粒子が前記処理室に導入される複数の貫通孔を備えた誘電体製の板部材と、前記処理室の上方の前記板部材の外周側でこれを囲んで配置され前記ウエハに電磁波を照射して加熱するランプ及び前記処理室の内側に面して前記ランプからの前記電磁波を透過させる部材で構成されたリング状の窓部材とを備えた真空処理装置の運転方法であって、 前記窓部材の電磁波を透過させる部材がこの窓部材の下面及び前記板部材を囲む側面を構成するものであって、 前記貫通孔から前記試料台上に載せられた前記ウエハに前記処理用のガスを用いて前記プラズマ形成室内に形成されたプラズマの粒子を供給して前記ウエハの表面に反応生成物を形成する工程の後に、前記プラズマ形成室内でのプラズマを消火し前記電磁波により前記ウエハを加熱して前記反応生成物を脱離させる工程を実施した後、前記プラズマ形成室にクリーニング用のガスを供給して前記プラズマ形成室内に形成したプラズマの粒子を当該プラズマ形成室及び前記処理室並びに前記窓部材に供給する工程を実施する真空処理装置の運転方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (2件)：
H01L 21/302 101 H ,  H05H 1/46 L
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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