特許
J-GLOBAL ID：202103004410269119

原料粉体の処理方法、および三次元造形物の製造方法

発明者：
蒲池 康

蒲池 康 について

, 
木谷 耕治

木谷 耕治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人近島国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-221433
公開番号（公開出願番号）：特開2017-110294
特許番号：特許第6797642号
出願日： 2016年11月14日
公開日（公表日）： 2017年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】粉末床溶融技術を用いて三次元造形物を製造するための原料粉体の処理方法であって、 前記原料粉体の層を形成する形成工程と、 前記層を形成した前記原料粉体の表面に形成された酸化膜を除去する工程と、を有し、前記酸化膜を除去する工程が、水素および/または不活性元素を含む雰囲気中で、前記層に電極を接触させて交流電圧を印加し、プラズマを生成させることにより行われる、 ことを特徴とする原料粉体の処理方法。
IPC (5件)：
B22F 1/00 ( 200 6.01) ,  B22F 3/105 ( 200 6.01) ,  B22F 3/16 ( 200 6.01) ,  B33Y 10/00 ( 201 5.01) ,  B33Y 30/00 ( 201 5.01)
FI (6件)：
B22F 1/00 C ,  B22F 3/105 ,  B22F 3/16 ,  B22F 1/00 Z ,  B33Y 10/00 ,  B33Y 30/00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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