再帰反射材料の製造時にトラップされるガスの発生を減少させる方法、および、微細構造のパターンを形成するためのツーリング

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人深見特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-554001
特許番号：特許第6847853号
出願日： 2016年04月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】再帰反射材料の製造時に、ツーリングとポリマーシートとの間にトラップされるガスの発生を減少させる方法において、対向する周辺のエッジを規定する基板および前記エッジの間で延びるモールディングの表面を提供する段階であって、前記モールディングの表面はベースラインによって規定された複数のプリズム構造を含み、前記複数のプリズム構造は平均構造高さを規定し、前記モールディングの表面は複数の通路を含み、それぞれの通路はベースラインを横切って延びるように位置し、前記通路は前記平均構造高さの5%〜50%の平均深さを有し、少なくとも一つの面を規定するポリマーシートを提供する段階、および前記基板から前記ポリマーシートの面まで前記複数のプリズム構造のパターンをエンボシングする段階、を含み、前記エンボシング段階時に前記基板と前記ポリマーシートとの間に配置されたガスは、前記通路の少なくとも一部を通じて追い出されることによってトラップされるガスの発生を減少させる、方法。

IPC (4件)：

B29C 33/42 ( 200 6.01) , G02B 5/124 ( 200 6.01) , B29C 33/38 ( 200 6.01) , B29C 59/02 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B29C 33/42 , G02B 5/124 , B29C 33/38 , B29C 59/02 B

引用特許：

審査官引用 (6件)

再帰反射性傾斜プリズム構造体
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-511847 出願人：リフレキサイト・コーポレーション
再帰反射体
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-523900 出願人：エルジーケミカルエルティーディー.
再帰反射鏡及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-255445 出願人：株式会社小糸製作所

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