特許
J-GLOBAL ID：202103007036787436
リソグラフィ装置およびその制御方法、ならびに物品の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 大塚 康弘
, 高柳 司郎
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-069279
公開番号（公開出願番号）：特開2017-181802
特許番号：特許第6792342号
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 原版のパターンを基板に転写してパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
前記原版を保持して移動する原版保持部と、
前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量を計測する計測部と、
前記原版保持部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記パターン形成を行う前に、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたときに前記計測部を用いて前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行い、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記原版が保持された前記原版保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得し、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記原版が初めて前記原版保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/68 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
G03F 7/20 521
, G03F 7/20 501
, H01L 21/68 F
, B29C 59/02 Z
