特許

J-GLOBAL ID：202103007075773760

固体ソース送出用の高純度タングステンヘキサカルボニル

発明者： バウム, トーマス エイチ. ,  ライト, ロバート エル., ジュニア ,  バトル, スコット エル. ,  クリアリー, ジョン エム.
出願人/特許権者： インテグリス・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-546780
特許番号：特許第6885871号
出願日： 2016年02月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 気相成長法によりタングステン含有膜を形成するための、焼結された粒子状タングステンヘキサカルボニルの焼結タングステンヘキサカルボニルである固体ソース材料であって、モリブデンの含量が1000ppm未満である、固体ソース材料。

IPC (3件)：

C23C 16/16 ( 200 6.01) ,  H01L 21/28 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 16/16 ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 21/285 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 膜前駆体蒸発システムにおいて使用される膜前駆体のトレーおよびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-031015   出願人：東京エレクトロン株式会社, ト-キョ-・エレクトロン・アメリカ・インコーポレーテッド
• スッパタリング用タングステン焼結体ターゲット及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-243120   出願人：株式会社日鉱マテリアルズ
• 原料供給装置および成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-274470   出願人：東京エレクトロン株式会社
• タングステンスパッタリングターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-115395   出願人：株式会社東芝
• 特公昭48-039235