特許
J-GLOBAL ID：202103007586277370
基板処理のための分光反射率計付き装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-085645
公開番号（公開出願番号）：特開2016-212096
特許番号：特許第6832633号
出願日： 2016年04月22日
公開日（公表日）： 2016年12月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】処理チャンバ内の基板を計測するための分光反射率計システムであって、
光源と、
少なくとも1つの光検出器と、
複数の光ファイバを備える光ケーブルと、
筐体であって、
前記光ケーブルを支持する第1部分と、
第2部分であって、前記第2部分を通過するように、前記光ケーブルからのおよび前記光ケーブルへの光に、光路を提供する第2部分と、
前記光路中に設けられるマイクロレンズアレイと、を備える筐体と、を備え、
前記複数の光ファイバは、
前記光源から前記筐体の前記第1部分に延びる伝送用光ファイバである第1の複数の光ファイバと、
前記筐体の前記第1部分から前記少なくとも1つの光検出器に延びる反射光ファイバである第2の複数の光ファイバとを含み、
前記筐体は、前記光源からの光を前記基板の照射部分に伝送し、前記基板の前記照射部分からの反射光を集める、分光反射率計システム。
IPC (2件)：
G01N 21/27 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
G01N 21/27 B
, H01L 21/302 103
