特許

J-GLOBAL ID：202103007665984350

凹凸構造体の製造方法

発明者： 宍戸 厚 ,  小林 吉彰 ,  橋本 彩有里 ,  赤松 範久 ,  須崎 吾郎 ,  鳥山 重隆
出願人/特許権者： ENEOS株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (3件)： 川北 喜十郎 ,  藤田 正広 ,  川津 幸恵
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-040738
公開番号（公開出願番号）：特開2021-142647
出願日： 2020年03月10日
公開日（公表日）： 2021年09月24日
要約：

【課題】 効率的で、且つ凹凸構造体の形状の設計変更に容易に対応可能な凹凸構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 凹凸構造体の製造方法であって、基材上に、オキセタン化合物を含む光重合性組成物の塗膜を形成することと、前記塗膜が形成された基材を45°C〜65°Cに加熱しながら、前記塗膜に所定のパターンで照射強度1.5mW/cm2〜30mW/cm2の光を照射して、表面に凹凸を有する高分子膜を形成することと、を含む。前記オキセタン化合物が、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物、及び2官能性オキセタン化合物の少なくとも一方であり、前記所定のパターンは、前記光が前記塗膜に照射される明部と、前記光が前記塗膜に照射されない暗部とから構成され、前記暗部の幅が20μm〜200μmである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

凹凸構造体の製造方法であって、 基材上に、オキセタン化合物を含む光重合性組成物の塗膜を形成することと、 前記塗膜が形成された基材を45°C〜65°Cに加熱しながら、前記塗膜に所定のパターンで照射強度1.5mW/cm2〜30mW/cm2の光を照射して、表面に凹凸を有する高分子膜を形成することと、を含み、 前記オキセタン化合物が、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物、及び2官能性オキセタン化合物の少なくとも一方であり、 前記所定のパターンは、前記光が前記塗膜に照射される明部と、前記光が前記塗膜に照射されない暗部とから構成され、前記暗部の幅が20μm〜200μmである、凹凸構造体の製造方法。

IPC (2件)：

B29C 59/16 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

B29C59/16 ,  G03F7/20 501

Fターム (18件)：

2H197CA04 ,  2H197CA05 ,  2H197DB06 ,  2H197HA06 ,  2H197HA08 ,  4F209AA39A ,  4F209AA44A ,  4F209AB04 ,  4F209AB10A ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209PA15 ,  4F209PA18 ,  4F209PB01 ,  4F209PJ06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 凹凸構造を有する物品およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-157721   出願人：富士フイルム株式会社
• 光学異方性高分子膜、有機EL表示装置及び液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2016-089011   出願人：エルジーディスプレイカンパニーリミテッド, 国立大学法人東京工業大学
• 凹凸構造を有する物品の製造方法および凹凸構造を有する物品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-167014   出願人：富士フイルム株式会社
• 賦形シートの製造方法及び賦形シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-025984   出願人：日立マクセル株式会社