有向ビーム信号分析を使用した粒子サイズの適応走査

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：雨貝正彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-091417
公開番号（公開出願番号）：特開2016-213189
特許番号：特許第6822783号
出願日： 2016年04月28日
公開日（公表日）： 2016年12月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】荷電粒子ビームを使用した走査方法であって、 (a)視野内において荷電粒子ビームを加工物に向かって初期走査パターンで導くことであって、同時に、前記荷電粒子ビームの衝突に反応して前記加工物の表面から発散した2次粒子を検出することであり、前記2次粒子が前記加工物の特性に対応し、 (b)前記加工物中の特徴部分の縁上の点を識別するために、前記加工物の特性が変化する、前記初期走査パターンに沿った点を決定することと、 (c)前記荷電粒子ビームを後続の限局走査パターンで導くことであって、前記後続の限局走査パターンの出発点が、前記特徴部分の前記縁上で識別された前記点によって決定され、前記後続の限局走査パターンが、前記縁における前記加工物の前記特性の変化によって決定される1つまたは複数の交点において、前記特徴部分の前記縁と交差し、 (d)前記特徴部分の外形を追跡する前記特徴部分の前記縁の複数の点を決定するために、前記荷電粒子ビームを、複数の後続の限局走査パターンで導くことであって、前記後続の限局走査パターンの出発点が、1つまたは複数の以前の限局走査パターンと前記特徴部分の前記縁との交点に基づいて決定される、ことを含み、前記荷電粒子ビームを後続の限局走査パターンで導くことが、前記荷電粒子ビームを曲線走査パターンで導くことを含む方法。

IPC (3件)：

H01J 37/28 ( 200 6.01) , H01J 37/147 ( 200 6.01) , H01J 37/22 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01J 37/28 B , H01J 37/147 B , H01J 37/22 502 B , H01J 37/22 502 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-122217
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公報種別：公開公報出願番号：特願2001-041491 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
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公報種別：公開公報出願番号：特願2011-167640 出願人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド

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