特許
J-GLOBAL ID：200903080082736530
完全な2次元サブミクロン形状の測定の方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-041491
公開番号（公開出願番号）：特開2001-273487
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：
【要約】【課題】 画素アレイ上の画像データから2次元画像形状を抽出する方法および装置。【解決手段】 この方法には、画像形状のエッジの付近で複数の方向で輝度対画素情報を選択するステップと、十分なコントラストを有する走査を、エッジ情報を含むものとして認識するステップが含まれる。許容可能な走査は、エッジ検出アルゴリズムにかけられ、エッジ位置が検出され、検出されたエッジの値から、画像の2次元形状を画定する点の位置が生成される。エッジ検出アルゴリズムは、応用分野に合わせて調整されたユーザ定義のエッジ検出アルゴリズムとすることができる。また、好ましい実施形態では、選択ステップに、少なくとも4つの方向で輝度対画素情報を選択するステップが含まれ、複数の方向は、角度的に少なくとも約22°だけ離隔される。一実施形態では、これらの方向の1つを、近似エッジ位置に垂直にすることができる。
請求項（抜粋）：
画素データの2次元アレイから2次元画像形状を抽出する方法であって、前記画像形状のエッジの付近で少なくとも1つの方向で輝度対画素情報を選択するステップと、十分なコントラストを有する走査を、エッジ情報を含む走査として認識するステップと、許容可能な走査をエッジ検出アルゴリズムにかけるステップと、前記エッジ位置を検出するステップと、前記検出されたエッジの値から、前記画像の前記2次元形状を画定する点の位置を生成するステップとを含む方法。
IPC (3件)：
G06T 1/00 305
, G01B 11/00
, G01N 21/956
G06T 1/00 305 A
, G01B 11/00 H
, G01N 21/956 A
