特許
J-GLOBAL ID：202103009748922677
荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-163389
公開番号（公開出願番号）：特開2017-055109
特許番号：特許第6799967号
出願日： 2016年08月24日
公開日（公表日）： 2017年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 パターン属性情報が対応づけられた描画データを保存する描画データ記憶部と、
前記描画データを前記パターン属性情報が対応づけられたショットデータに分割するショット分割部と、
前記パターン属性情報に対応づけられ伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標を保存する指標記憶部と、
前記ショットデータに基づいて描画スケジュールを作成する描画スケジュール作成部と、
前記描画スケジュールと、前記指標と、に基づいて、描画対象の前記ショットデータにより描画されるショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定する近似計算方法決定部と、
前記近似計算方法に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットよりも前に描画される前記他のショットからの前記伝熱による温度上昇量を計算する熱拡散計算部と、
前記温度上昇量に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの代表温度を求めるショット温度計算部と、
前記代表温度に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの照射量を変調する照射量変調部と、
変調された照射量と、前記描画スケジュールと、に基づいて描画を行う描画部と、
前記補正区画領域内に位置するすべての前記ショットの総面積と等しい面積を有する代表図形を作成する補正区画内代表図形設定部と、
を備え、
前記計算上併合する補正区画領域内に位置するすべての前記ショットの重心が位置する場所と前記代表図形の中心が同じ場所になるように配置し、
前記補正区画領域内に位置する前記ショットから前記描画されるショットへの伝熱の和を、前記代表図形から前記描画されるショットへの伝熱として計算する、
荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 M
, G03F 7/20 504
, H01L 21/30 541 Q
, H01J 37/305 B
