特許

J-GLOBAL ID：202103009920767441

シリコンナノ粒子の製造方法

発明者： 佐藤 慶介 ,  平栗 健二 ,  井口 翼 ,  加藤 桂太
出願人/特許権者： 学校法人東京電機大学
代理人 (1件)： 前田 伸哉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-174578
公開番号（公開出願番号）：特開2018-039695
特許番号：特許第6906774号
出願日： 2016年09月07日
公開日（公表日）： 2018年03月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造するシリコンナノ粒子の製造方法であって、 分散されたシリコン粉末を含む水系溶媒にフッ化水素酸を添加して反応混合物を調製する第一投入工程と、 前記第一投入工程を経た前記反応混合物に、シリコン粒子の表面を酸化させる作用を備えた酸化剤を添加する第二投入工程と、 前記第二投入工程を経た前記反応混合物に対して、前記反応混合物を混合させるための外力を加えながら前記フッ化水素酸と前記酸化剤との作用により前記シリコン粉末に含まれるシリコン粒子を完全には溶解させずに目的物であるナノ粒子のレベルまで細径化させるエッチング工程と、を備え、前記エッチング工程で細径化されたシリコン粒子を目的物であるシリコンナノ粒子とすることを特徴とするシリコンナノ粒子の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/021 ( 200 6.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01)

FI (2件)：

C01B 33/021 ZNM ,  B82Y 40/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 蛍光シリコンの液相合成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-118137   出願人：国立大学法人東京大学
• シリコンナノ粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-044180   出願人：学校法人東京電機大学