特許
J-GLOBAL ID：202103010129125000
蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び有機ELディスプレイの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石橋 良規
, 林 剛史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-210758
公開番号（公開出願番号）：特開2018-070933
特許番号：特許第6891449号
出願日： 2016年10月27日
公開日（公表日）： 2018年05月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板のみからなる、又は前記樹脂板を含む蒸着マスク準備体を準備する工程と、
前記蒸着マスク準備体の前記樹脂板にレーザー光を照射して、前記樹脂板に、蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部を形成する開口部形成工程と、を含み、
前記樹脂板として、アライメント部を有する樹脂板を用い、
前記開口部形成工程の前に、前記樹脂板が有する前記アライメント部を利用してレーザー光の焦点位置を設定するアライメント工程を含み、
前記樹脂板が有する前記アライメント部が、前記樹脂板の一方の面上の一部、又は他方の面上の一部に設けられた着色層である、
蒸着マスクの製造方法。
IPC (3件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
C23C 14/04 A
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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