特許
J-GLOBAL ID:202103012000902941

流体流内の1つ以上の流体濃度を測定するためのシステムおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 樋口 洋
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-564346
特許番号:特許第6821871号
出願日: 2016年06月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1の時間中に流体流内の少なくとも2つの流体成分の濃度を測定するためのシステムであって、 前記システムが: 流体入口ポートおよび流体出口ポートを備える内部部分を規定し、および流体入口ポートから流体出口ポートまでの流体流の流れを受け入れるように構成されるハウジングと; ハウジング内に位置し、および第1の時間中にハウジング内部の基準温度値、基準光学値、または基準形態学値を測定するように構成された基準センサに接続される、基準センサ基板と; 少なくとも2つの能動センサであって、少なくとも2つの能動センサの各々がハウジング内に位置し、および少なくとも2つの流体成分の各々の存在または能動性によって引き起こされる、温度値の偏差、光学値の偏差、または形態学値の偏差を測定するように構成された少なくとも2つの能動センサと; 少なくとも2つの能動センサの各々および基準センサと通信するプロセッサと、を含み、 前記プロセッサが、 少なくとも2つの流体成分の各々の濃度を測定するために、これらの偏差の値を、ライブラリに記憶されているあらかじめ決められた偏差の値と比較しおよび一致させること、 によって第1の時間中に少なくとも2つの流体成分の各々の濃度を測定するように構成される、システム。
IPC (2件):
G01M 15/02 ( 200 6.01) ,  G01M 15/10 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01M 15/02 ,  G01M 15/10
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る