研磨方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田国際特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-543199
特許番号：特許第6797811号
出願日： 2016年09月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】研磨用組成物を用いて、2種以上の材料を含む研磨対象物を研磨する研磨方法であって、前記2種以上の材料は、金属と、ケイ素-酸素結合を有する材料、ケイ素-ケイ素結合を有する材料、またはケイ素-窒素結合を有する材料とを含み、前記研磨方法は、前記研磨対象物における前記金属と、前記ケイ素-酸素結合を有する材料、前記ケイ素-ケイ素結合を有する材料、または前記ケイ素-窒素結合を有する材料との表面ゼータ電位を均一化することを含み、前記均一化は、前記金属と、前記ケイ素-酸素結合を有する材料、前記ケイ素-ケイ素結合を有する材料、または前記ケイ素-窒素結合を有する材料とに吸着する吸着基、およびゼータ電位を付与する官能基を有する電位均一化剤(但し、下記一般式(I)で表されるトリルトリアゾール化合物を除く)を用いて行い、前記電位均一化剤は、ジシアンジアミド・ジエチレントリアミン・ホルマリン縮合物を含む、研磨方法。 (上記一般式(I)中、R1は各々独立に炭素数1〜4のアルキレン基を示し、R2は炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)

IPC (3件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) , B24B 37/00 ( 201 2.01) , C09K 3/14 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/304 621 D , H01L 21/304 622 X , H01L 21/304 622 D , B24B 37/00 H , C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

停止化合物を伴う化学機械的研磨系及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-102674 出願人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-287264 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-046673 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

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