特許

J-GLOBAL ID：202103014828229402

化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法

発明者： 山田 裕也 ,  西村 康平 ,  石戸 洋太 ,  渋谷 恭兵 ,  國谷 英一郎 ,  野田 昌宏
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (3件)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫 ,  松本 充史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-252453
公開番号（公開出願番号）：特開2018-107294
特許番号：特許第6819280号
出願日： 2016年12月27日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 スルファニル基が共有結合を介して表面に固定化された砥粒と、 液状媒体と、を含有し、 さらに、カリウムおよびナトリウムを含有し、 前記カリウムの含有量をMK(ppm)、前記ナトリウムの含有量をMNa(ppm)としたときに、MK/MNa=3×103〜3×105である、化学機械研磨用組成物。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 201 2.01) ,  C09K 3/14 ( 200 6.01) ,  C09G 1/02 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 Z ,  C09G 1/02

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-288415   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• CMP用研磨液及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-338774   出願人：日立化成工業株式会社
• 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-022258   出願人：JSR株式会社
• 研磨用スラリーの再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-104495   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• 研磨用シリカ粒子分散液、その製造方法および研磨材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-304958   出願人：触媒化成工業株式会社

審査官引用 (3件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-288415   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-069274   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-313072   出願人：富士フイルム株式会社