基板処理装置及び載置台

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-238399
公開番号（公開出願番号）：特開2018-098239
特許番号：特許第6812224号
出願日： 2016年12月08日
公開日（公表日）： 2018年06月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理容器と、前記処理容器内に設けられた、被処理体が載置される載置領域と、前記載置領域の周囲に形成されてフォーカスリングが載置される外周領域とを有する基台と、前記処理容器の底部に配置され、第1の貫通孔が形成され、前記基台を支持する支持部材と、前記基台の外周領域に形成された挿入孔に挿入されて前記第1の貫通孔と螺合することにより前記基台と前記支持部材とを連結する、前記第1の貫通孔と連通する第2の貫通孔が形成された連結部材と、前記第1の貫通孔及び前記第2の貫通孔に挿入されて前記挿入孔から突出自在に設けられ、前記挿入孔から突出して前記フォーカスリングを上昇させるリフタピンとを有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：