特許
J-GLOBAL ID：202103017618583377

レジスト組成物

発明者：
山本 敏

山本 敏 について

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安江 崇裕

安江 崇裕 について

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市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-133973
公開番号（公開出願番号）：特開2017-045039
特許番号：特許第6826385号
出願日： 2016年07月06日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、式(I-B)で表される部分構造を有する、3〜18個のフッ素原子を有し、かつ、環状構造を備えるアニオンを含む酸発生剤(Ba)とを含有するレジスト組成物。 [式(II)中、 R2は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 L1は、単結合又は*-L2-CO-O-(L3-CO-O)g-を表す。*は、酸素原子との結合手を表す。 L2、L3及びL4aは、互いに独立に、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。 gは、0又は1を表す。 nは、1〜3の整数を表す。 nが2又は3の時、L4aは同じでも異なっていてもよい。 R3は、炭素数1〜12の炭化水素基を表す。] [式(I-B)中、 A1は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。 R3は、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置き換わっていてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。A1及びR3は、互いに結合し、これらが結合する炭素原子とともにヘテロ原子を有してもよい環を形成してもよい。 Xa及びXbは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。 X2は、フッ素原子を有してもよい2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。 *は結合手である。]
IPC (4件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  C08F 220/28 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  C08F 220/28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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