特許

J-GLOBAL ID：201203038900200658

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 片岡 祥平 ,  岩戸 薫 ,  藤井 佳奈
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-291381
公開番号（公開出願番号）：特開2012-137698
出願日： 2010年12月27日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、LWR及びDOFに優れると共に、感度及びPED安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(EI)で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。RE1、RE2及びRE3は各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。RE1とRE2は結合して環を形成していても良い。RE4及びRE5は各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。RE6及びRE7は各々独立に、水素原子又は一価の有機基を表す。Bc1は単結合又は2価の連結基を表す。RE4、RE5、RE6、RE7及びBC1はそれぞれ結合して環を形成していても良い。*は前記樹脂(A)の主鎖又は側鎖連結の結合手。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(EI)で表される構造を有する繰り返し単位を有する樹脂(A)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10

Fターム (87件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH01 ,  2H125AH05 ,  2H125AH07 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ23Y ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ55Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ87Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM12P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA40Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA39 ,  4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-245335   出願人：富士フイルム株式会社
• (メタ)アクリル酸系重合体および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-066461   出願人：JSR株式会社
• 感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-305422   出願人：JSR株式会社
• パターン形成方法及びレジスト組成物並びにアセタール化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-058724   出願人：信越化学工業株式会社
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-077432   出願人：富士フイルム株式会社