特許
J-GLOBAL ID：200903024452462232

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について

, 
田口 紀彦

田口 紀彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-198653
公開番号（公開出願番号）：特開2009-069814
出願日： 2008年07月31日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】100nm以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れ、露光ラチチュード、ラインエッジラフネスが改良され、且つサーマルフロープロセスにおいてレジストパターンの制御性に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)3級アルキルエステル基を有する特定構造の繰り返し単位(1)と、メチレン基の一部が酸素原子、硫黄原子又はエステル基で置き換えられていてもよい炭素数4〜30のアルキレン基を有する繰り返し単位(2)とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(1)と、-L-R3基(式中、Lは、 炭素数4〜30の2価の連結基を表し、R3は、水素原子、水酸基又は有機基を表す)を 有する繰り返し単位(2)とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (33件)：
2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA40P ,  4J100BC03R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100BC58P ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (8件)
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