特許
J-GLOBAL ID：202103018335747418
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-213197
公開番号（公開出願番号）：特開2017-095688
特許番号：特許第6789067号
出願日： 2016年10月31日
公開日（公表日）： 2017年06月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される化合物。
[式(I)中、
R0は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
A1は、*-A2-CO-O-A3-、*-A4-O-CO-A5-、*-A6-O-A7-又は*-A8-O-CO-O-A9-を表す。*は酸素原子との結合手を表す。
A2、A4、A6及びA8は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
A3、A5、A7及びA9は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
Adは、アダマンタントリイル基を表す。
R1は、それぞれ独立に、水素原子、式(aa1)又は式(aa2)で表される基を表す。ただし、少なくとも1つのR1は式(aa1)又は式(aa2)で表される基を表す。
(式(aa1)中、
R2〜R4は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、R2及びR3は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成する。
式(aa2)中、
R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、R7は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、R6及びR7は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及び酸素原子とともに炭素数3〜20の2価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該2価の複素環基に含まれる-CH2-は、-O-又は-S-で置き換わってもよい。)]
IPC (7件)：
C08F 20/28 ( 200 6.01)
, C07C 69/757 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, C07D 309/12 ( 200 6.01)
C08F 20/28
, C07C 69/757 CSP Z
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/004 501
, G03F 7/20 521
, C07D 309/12
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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