【課題】生体系が有する高次機能を発揮できるメモリスタを提供する。【解決手段】メモリスタ10は、絶縁破壊プロセスを必要としないメモリスタであって、酸化物半導体層2と、端子3〜6とを備える。酸化物半導体層2は、単結晶TiO2-x(0
請求項(抜粋):
絶縁破壊プロセスを必要としないメモリスタであって、
ドーパントを含む酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層に電圧を印加し、前記ドーパントの分布を2次元分布または3次元分布に制御する端子とを備えるメモリスタ。
IPC (6件):
H01L 21/823
, H01L 27/105
, H01L 27/10
, H01L 29/06
, G06N 3/063
, G11C 11/54
FI (5件):
H01L27/105 448
, H01L27/10 451
, H01L29/06 601N
, G06N3/063
, G11C11/54
Fターム (4件):
5F083FZ10
, 5F083GA10
, 5F083JA60
, 5F083PR25
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