特許
J-GLOBAL ID:202103019828885980

エンベデッド基板及びエンベデッド基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 龍華国際特許業務法人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-001026
公開番号(公開出願番号):特開2016-134622
特許番号:特許第6798076号
出願日: 2016年01月06日
公開日(公表日): 2016年07月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1絶縁層と、 前記第1絶縁層の内部に配置された第1回路層と、 前記第1絶縁層の上面上に配置された第2絶縁層と、 前記第2絶縁層の内部に配置された第2回路層と、 前記第2絶縁層の内部で前記第2回路層の側面から離隔するように配置された第1電子素子と、 前記第1絶縁層の内部に、そして前記第1回路層と前記第2回路層または第1電子素子との間に配置された金属フィラーと、 前記第2絶縁層の内部に、そして前記第2回路層の上面上に配置された第1ビアと、 前記第2絶縁層の上面上に配置され、前記第1ビアの少なくとも一部をソルダが塗布されるために前記第2絶縁層から露出させる開口を有する第1保護層と、を含むエンベデッド基板。
IPC (2件):
H05K 3/46 ( 200 6.01) ,  H01L 23/12 ( 200 6.01)
FI (5件):
H05K 3/46 B ,  H05K 3/46 Q ,  H05K 3/46 N ,  H01L 23/12 B ,  H01L 23/12 N
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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