特許
J-GLOBAL ID：202103020349970459
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
天野 一規
, 藤本 勝誠
, 池田 義典
, 小川 博生
, 石田 耕治
, 各務 幸樹
, 藤中 賢一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-129444
公開番号（公開出願番号）：特開2018-004843
特許番号：特許第6926406号
出願日： 2016年06月29日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(1)で表される基を含む第1構造単位を有する第1重合体(但し、第1重合体がSi原子を含む構造単位を有する場合を除く。)と、
感放射線性酸発生体と、
溶媒と
を含有し、
上記第1構造単位が、下記式(1-1)又は式(1-2)で表される感放射線性樹脂組成物(但し、感放射線性樹脂組成物が2-フェニルベンゾイミダゾールを含有する場合を除く。)。
(式(1)中、Xは、酸素原子又は硫黄原子である。R1〜R5は、それぞれ独立して、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。*は、上記第1構造単位における上記式(1)で表される基以外の部分との結合部位を示す。)
(式(1-1)及び(1-2)中、Zは、上記式(1)で表される基である。
式(1-1)中、R6は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。L1は、Xが酸素原子である場合、炭素数1〜20の2価の有機基であり、Xが硫黄原子である場合、単結合又は炭素数1〜20の2価の有機基である。
式(1-2)中、R7は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。L2は、単結合又は炭素数1〜20の2価の有機基である。)
IPC (4件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, C08F 220/28 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, G03F 7/20 521
, C08F 220/28
