特許

J-GLOBAL ID：202103020518929196

LPP EUV光源におけるソースレーザの発射を制御するためのシステム及び方法

発明者： ラファック,ロバート,ジェイ ,  リッグス,ダニエル ジェイソン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-502640
特許番号：特許第6831364号
出願日： 2016年08月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 一連の液滴を放出する液滴発生器を有する極端紫外線(EUV)レーザ生成プラズマ(LPP)光源において、照射部位に向けてパルスを発射するソースレーザの発射タイミングを修正する方法であって、 前記一連の液滴の第1の液滴と衝突した前記パルスの第1のパルスから生成される第1のEUVエネルギー量を求めることと、 検出した前記第1のEUVエネルギー量から、前記照射部位に到達する前記一連の液滴の第2の液滴の予想遅延を決定することと、 前記第2の液滴が前記照射部位に到達するときに前記第2の液滴を照射するように、前記第2の液滴の前記予想遅延に基づいて、前記パルスの第2のパルスについての前記ソースレーザの発射タイミングを修正することと、を含み、 前記予想遅延を決定することは、前記第1の液滴の前に照射された液滴によって生成されたEUVエネルギー量にローパスフィルタを適用することと、前記ローパスフィルタが適用された前記EUVエネルギー量にWatt-1の単位を有するパラメータPを乗じることと、を含む、方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H05G 2/00 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G03F 7/20 503 ,  H05G 2/00 K ,  G03F 7/20 521 ,  H05H 1/24

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 放射源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2015-513072   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 差動排気システム及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-107771   出願人：キヤノン株式会社
• EUV光源内でターゲット材料の液滴を制御するためのシステム及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2016-545748   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 特許第8809823号