特許

J-GLOBAL ID：202103020548164119

気液接触装置

発明者： 中村 至高 ,  磯 良行 ,  高野 健司 ,  奥野 真也 ,  池田 諒介
出願人/特許権者： 株式会社IHI
代理人 (4件)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-232125
公開番号（公開出願番号）：特開2018-086635
特許番号：特許第6855765号
出願日： 2016年11月30日
公開日（公表日）： 2018年06月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 横方向に配列するように割り当てられる複数の領域を有し、前記複数の領域の各々が、並列する複数の鉛直な平板を有する気液接触部と、 液体を前記気液接触部に供給して前記複数の領域を配列に沿って順次流通させる液体供給システムと、 ガスを前記気液接触部に供給して前記複数の領域を配列に沿って順次流通させるガス供給システムと を有し、前記複数の領域の各々における前記複数の鉛直な平板は、前記ガスが通過する方向に沿うように配置され、供給される液体は、前記複数の領域の各々において、前記複数の鉛直な平板を流下すると共に、供給されるガスと接触する気液接触装置。

IPC (7件)：

B01J 10/00 ( 200 6.01) ,  B01J 19/32 ( 200 6.01) ,  B01D 53/78 ( 200 6.01) ,  B01D 53/62 ( 200 6.01) ,  B01D 53/18 ( 200 6.01) ,  B01D 53/56 ( 200 6.01) ,  B01D 53/50 ( 200 6.01)

FI (7件)：

B01J 10/00 102 ,  B01J 19/32 ZAB ,  B01D 53/78 ,  B01D 53/62 ,  B01D 53/18 160 ,  B01D 53/56 200 ,  B01D 53/50 200

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ガス不純物の除去システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-134085   出願人：ヤマハ株式会社, 株式会社テクノ菱和
• 特開昭57-081826
  
• 排気処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-151380   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 排ガス処理装置及びそのための排ガス洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-017297   出願人：ジェクス株式会社