ナノフォトニックデバイスへの自動,深い反応性イオンエッチングフリーファイバ結合【JST・京大機械翻訳】

Flassig Fabian; Flaschmann Rasmus; Kainz Thomas; Ernst Sven; Strohauer Stefan; Schmid Christian; Zugliani Lucio; Mueller Kai; Finley Jonathan J.

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202206433852925 整理番号：22P0275488

ナノフォトニックデバイスへの自動,深い反応性イオンエッチングフリーファイバ結合【JST・京大機械翻訳】

Automated, deep reactive ion etching free fiber coupling to nanophotonic devices

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで

この文献はプレプリントです。プレプリントについてはこちらをご確認ください。

著者 (9件)： , , , , , , , ,
資料名：
発行年： 2022年01月17日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年01月17日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

統合オプトエレクトロニックデバイスと量子フォトニックアーキテクチャの急速な発展は,低損失とのチップ結合に対する光ファイバの必要性を創出する。ここでは,ナノフォトニックデバイスの光ファイバへの温度安定自己整列接続を可能にする高速で一般的なアプローチを示した。提案アプローチの到達可能精度はDRIEプロセスベース結合のそれに等しいことを示した。特に,初期アラインメント精度は,1.2±0.4μmであり,これは,用いたファイバの同心度の精度のオーダである<0.5μmの交尾によって引き起こされ,そして,熱サイクル安定性は<0.2μmであった。これらの値から,期待される全体的アラインメントオフセットは1.4±0.4μmと計算された。これらの結果は,著者らのプロセスが,フォトニックデバイスを光ファイバに結合するための,実装が容易で,多目的で,ロバストで,DRIEフリーな方法を提供することを示している。それは完全に自動化でき,従って量子フォトニックシステム用の新しいデバイスへのカップリングに対してスケーラブルである。【JST・京大機械翻訳】

, , , , , , ,
, , , , 【Automatic Indexing@JST】

光導波路,光ファイバ,繊維光学

, ,

前のページに戻る