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J-GLOBAL ID:202202234470568819   整理番号:22A0741618

ゲートフローティング下のEモードGaNベーストランジスタのI-V特性【JST・京大機械翻訳】

I-V Characteristics of E-mode GaN-based transistors under gate floating
著者 (5件):
資料名:
巻: 37  号:ページ: 045002 (7pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: E0503B  ISSN: 0268-1242  CODEN: SSTEET  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,ゲートフローティングとゼロゲートバイアスの下で,種々のEモードGaNベーストランジスタのI-V挙動を研究した。p-GaNゲート高電子移動度トランジスタ(HEMT),ゲート注入トランジスタ,およびカスコードGaNFETを採用し,比較した。測定したI-V特性に基づくCascode GaN FETを除いて,ゲート浮遊下で高いオフ状態ドレイン電流を観測した。p-GaNゲートHEMTのオフ状態ドレイン電流は,6Vのドレインバイアスでのゲート浮遊下で最大0.8mAであり,ゼロゲートバイアスより約107倍大きい。素子は,ドレインとゲート電極間の容量充電効果のために,ゲート浮遊下のスイッチング中に,誤ターンオンと逆伝導損失を誘起する。静電容量充電効果の機構をp-GaNゲートHEMTの等価回路を用いて論じ,Silvaco TCADシミュレーションにより確認した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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トランジスタ 
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