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J-GLOBAL ID：202202236408537584   整理番号：22A0958551

酸素RF放電における負イオン密度に対する磁気フィルタ位置の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of magnetic filter position on negative ion density in oxygen RF discharge

著者 (4件)： Sharma N (Centre of Plasma Physics-Institute for Plasma Research, Tepesia, Sonapur, Kamrup, Assam 782402, India) ,  Chakraborty M (Centre of Plasma Physics-Institute for Plasma Research, Tepesia, Sonapur, Kamrup, Assam 782402, India) ,  Mukherjee A (Centre of Plasma Physics-Institute for Plasma Research, Tepesia, Sonapur, Kamrup, Assam 782402, India) ,  Saha P K (Centre of Plasma Physics-Institute for Plasma Research, Tepesia, Sonapur, Kamrup, Assam 782402, India)
資料名： Plasma Research Express  (Plasma Research Express)
巻： 4  号： 1  ページ： 015005 (11pp)  発行年： 2022年 
JST資料番号： W5581A  ISSN： 2516-1067  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,電子温度に対する磁気フィルタの位置の影響,従ってヘリコン酸素放電における負のイオン密度の影響を調べた。本研究は,高周波(RF)プラズマにおける負のイオン密度を改善するために行った。RFプラズマはHeliconプラズマ源(HeliPS)のソース領域で発生し,酸素放電の場合の電子温度,密度,および負のイオン密度の変化を研究し,RF電力が適用されるアンテナの位置に対する磁気フィルタの最適位置を決定した。RF場は磁気フィルタを超えて浸透し,膨張チャンバに追加のイオン化を引き起こし,それによって高エネルギー電子を生成し,負のイオン密度を減少させることが観察された。したがって,磁気フィルタの位置は,負のイオンの形成に影響するので,アンテナの位置から十分に離れている。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アンテナ ,  *イオン ,  *イオン密度 ,  プラズマ ,  電子温度 ,  *放電 ,  *酸素 ,  HF【周波数】 ,  プラズマ源 ,  ヘリコン ,  磁気フィルタ ,  *RF放電
準シソーラス用語： チャンバ ,  高エネルギー電子 ,  RFプラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素 ,  RF放電 ,  イオン密度 ,  磁気フィルタ