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J-GLOBAL ID：202202258650996446   整理番号：22A0418615

多次元RFシースモデルと半導体製造プラズマエッチング装置への応用

著者 (2件)： 伝宝一樹 (東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ 成膜技術開発セ) ,  川上雅人 (東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ 成膜技術開発セ)
資料名： 計算工学  (Journal of the Japan Society for Computational Engineering and Science)
巻： 27  号： 1  ページ： 4383-4387  発行年： 2022年01月31日 
JST資料番号： L5669A  ISSN： 1341-7622  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・半導体デバイスの製造においては,配線用の孔や溝を掘るエッチング工程,配線の形状や絶縁膜を積み上げる成膜工程等,プラズマを用いたプロセスを多用。
・半導体デバイス製造におけるプラズマプロセスでは,精密なエッチングや堆積膜の特性向上のため,ウェーハに入射するイオンのエネルギー分布や角度分布を把握,精密に制御することが必要。
・任意形状周りに形成されるrfシースの運動と,振動するシース中をウェーハに向かって加速するイオンの運動,背景ガスの衝突を多次元かつ非定常計算可能なrfシースモデルを紹介。
・理論の概要を説明後,量産対応エッチング装置への実践的応用事例を披露。

シソーラス用語： *プラズマさや ,  *半導体プロセス ,  *プラズマエッチング ,  *プラズマ ,  ウエハ【IC】 ,  イオン ,  モデリング ,  大量生産
準シソーラス用語： *プラズマシース ,  *半導体製造プロセス ,  量産

分類 (3件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ一般  (BJ02010B)

引用文献 (20件)：

• V. M. Donnelly and A. Kornblit, Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow, J. Vac. Sci. Technol. A, 31(5), 050825, (2013).
• H. Mochiki, K. Yatsuda, S. Okamoto, F. Inoue, Enhancement Mechanism of Distortion and Twisting in Ultra High Aspect Ratio Dielectric Etching, AVS 56th Int Symp., PS2+MN-WeA4, (2009).
• K. Denpoh, S. Wakabayashi, S. Okabe, Y. Kobayashi, S. Kawasaki, K. Hikawa, Y. Yamazawa, M. Matsukuma, C. Koshimizu, T. Shimizu and S. Murakami, Novel PECVD equipment for Ti thin film deposition utilizing Ar-based plasma and wafer stage impedance control, Proc. 2016 Int. Symp. Dry Process, pp.183-184, (2016).
• S. Iwashita, K. Denpoh, T. Kikuchi, Y. Suzuki, Y. Wagatsuma, T. Hasegawa and T. Moriya, Impact of ion energies in Ar/H₂ capacitively coupled radio frequency discharges on PEALD processes of titanium films, 350, pp.740-744, (2018).
• S. Iwashita, K. Denpoh, M. Kagaya, T. Kikuchi, N. Noro, T. Hasegawa and T. Moriya, and A. Uedono, Ion energy control and its applicability to plasma enhanced atomic layer deposition for synthesizing titanium dioxide films, Thin Solid Films, 660, pp.865-870, (2018).

タイトルに関連する用語 (8件)： 多次元 ,  RF ,  シース ,  モデル ,  半導体製造 ,  プラズマ ,  エッチング装置 ,  応用