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J-GLOBAL ID：202202261583290616   整理番号：22A0788393

NEMSデバイスのCD-SEMSを予測するための深層学習【JST・京大機械翻訳】

Deep Learning for Predicting CD-SEMS of NEMS Devices

著者 (13件)： Davaji Benyamin (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Cook Peter A (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Kor Bahar (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Luo Ziwang (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Chen Jiaxian (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Clark Jeremy (Cornell University,Cornell Nanoscale Science and Technology Facility,Ithaca,New York) ,  Bordonaro Garry (Cornell University,Cornell Nanoscale Science and Technology Facility,Ithaca,New York) ,  Genova Vincent (Cornell University,Cornell Nanoscale Science and Technology Facility,Ithaca,New York) ,  Heuser Marco (Hitachi High Technologies America, Inc) ,  Ayres Steve (Hitachi High Technologies America, Inc) ,  Ober Christopher K (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Doerschuk Peter C (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York) ,  Lal Amit (School of Electrical and Computer Engineering, Cornell University,Ithaca,New York)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2022  号： MEMS  ページ： 462-465  発行年： 2022年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,CD-SEMデータに基づくフォトリソグラフィーとプラズマエッチングからのプロセス出力を予測するAIモデルを示す。これは,従来のTCADツールで用いられる物理ベースモデルと対照的である。ASML DUVリソグラフィーステッパとOxford Cobra ICPプラズマエッチング装置の成果からナノ構造CD-SEM(~150,000)から成る大きなデータセットを作成した。AIモデルは,CD-SEMの訓練セットから学習するImage-to-Image変換深層学習アルゴリズムである。この深層学習モデルは,クリーンルームからのデータが連続的に収集されるので,レイアウトが能動的に修正できる進化するTCADモデルを可能にする。このモデルは,先進サブミクロンNEMSとMEMSに対して,収率とデバイス均一性と性能,従って市場への時間の改善に役立つ。このデータセットの性質は,学術的および工業的クリーンルームに対する提示アルゴリズムの適用性を確実にする。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アルゴリズム ,  適応性 ,  深層 ,  プラズマエッチング ,  *クリーンルーム ,  フォトリソグラフィー ,  ナノ構造 ,  学習アルゴリズム ,  MEMS
準シソーラス用語： NEMS ,  TCAD ,  *深層学習 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (3件)： NEMSデバイス ,  予測 ,  深層学習