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J-GLOBAL ID：202202276673839722   整理番号：22A1210690

大電力パルススパッタリング法を用いたナノ粒子合成の基礎検討

Metal Nano Particles Synthesis by High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) method

著者 (4件)： 堀智貴 (東京工大) ,  桃園聡 (東京工大) ,  平田敦 (東京工大) ,  青野祐子 (東京工大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集(CD-ROM)  (精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集(CD-ROM))
巻： 2022  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.A110  発行年： 2022年03月02日 
JST資料番号： Y0914B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,大電力パルスマグネトロンスパッタ(HiPIMS)法によるナノ粒子合成を検討した.低蒸気圧を示すポリエチレングリコールでスパッタ粒子を捕捉し,TEMとDLSでは数nmの粒子が凝集して数百nmの二次粒子を形成していることを明らかにした.HiPIMSの電圧波形により,プラズマのイオン種の割合が変化することを確認し,プラズマ条件が凝集径に与える影響を検討した.その結果,高電圧・短パルスの場合に凝集径が小さくなることを確認した.(著者抄録)

シソーラス用語： スパッタリング ,  電力 ,  ナノ粒子 ,  合成 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  ポリエチレンオキシド ,  光分散 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *凝集 ,  プラズマ ,  パルス ,  パルス幅
準シソーラス用語： *ナノ粒子合成 ,  ポリエチレングリコール ,  マグネトロンスパッタ法 ,  大電力

分類 (5件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y)

引用文献 (6件)：

• 隅山兼治 他.クラスター・ナノ粒子・薄膜の基礎-形成過程,構造, 電気,磁気物性(2016), 内田老鶴圃
• ギュンター シュミット・岩村秀,ナノ粒子科学-基本原理から応用まで-(2008),NTS
• Hatakeyama et al: Synthesis of Gold Nanoparticles in Liquid Polyethylene Glycol by Sputter Deposition and Temperature Effects on their Size and Shape, JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C, 115, 8 (2011) 3279-3285
• J T Gudmundsson: Ionization mechanism in the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge, (2008) Journal of Physics: Conference Series 100 082013.
• 金原粲.スパッタリング現象:基礎と薄膜・コーティング技術への応用(1984),東京大学出版会

タイトルに関連する用語 (5件)： 大電力 ,  パルス ,  スパッタリング法 ,  ナノ粒子合成 ,  基礎