文献
J-GLOBAL ID：202202278590026578
整理番号：22A1649150
有機分子膜上の官能基を利用した金属酸化物の空間選択的原子層堆積
Area-selective atomic layer deposition of metal oxides on organic molecular layers
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著者 (12件)：
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資料名：
巻：
102nd
ページ：
ROMBUNNO.D201-1am-06 (WEB ONLY)
発行年：
2022年
JST資料番号：
U2384A
資料種別：
会議録 (C)
記事区分：
短報
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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原子層堆積は原子の自己制御性を利用し秩序的な薄膜構造を形成する技術である。また自己組織化単分子膜は,アルキル鎖のファンデルワールス相互作用により自発的に形成される均質な有機薄膜である。我々は酸化亜鉛ナノワイヤ上に異なる末端官能基を有する自己組織化単分子膜を形成し,金属酸化物の原子層体積を行った。結果,自己組織化単分子膜の官能基により金属酸化物の原子層堆積を制御することが可能であることを見出した。(著者抄録)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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準シソーラス用語：
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分類 (3件)：
分類
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酸化物薄膜
, 固体の表面構造一般
, 界面化学一般
タイトルに関連する用語 (4件)：
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