特許
J-GLOBAL ID:202203006721509253
強磁性薄膜積層体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2021-085777
公開番号(公開出願番号):特開2022-178753
出願日: 2021年05月21日
公開日(公表日): 2022年12月02日
要約:
【課題】積層構造全体として膜面内で等方的な磁気特性を有し、電子機器などに使用可能な新規な構成の強磁性薄膜積層体を提供する。
【解決手段】強磁性薄膜積層体1は、基材10の上にN個(3≦N)のナノグラニュラー薄膜12-1、12-2、..12-Nが間に絶縁膜14-1、14-2、..14-N-1を挟んで順に積層された構造を有する。各ナノグラニュラー薄膜12-iは、組成式(M
1
a
M
2
b
)
100-x
(L
c
F
d
)
x
で表わされる組成を有し、かつ、面内一軸磁気異方性を有している。絶縁膜14-jは、L
c
F
d
で表わされる組成を有している。第iのナノグラニュラー薄膜の磁化容易軸方向を表わす方位角θ
i
(0°≦θ
i
≦180°)が、関係式Σ
k≠i
cos(θ
i
-θ
k
)=0により表わされる関係を有するように構成されている。
【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材の上にN個(3≦N)のナノグラニュラー薄膜が間に絶縁膜を挟んで順に積層された構造を有する強磁性薄膜積層体であって、
前記ナノグラニュラー薄膜は、組成式(M
1
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (7件):
5E049AA01
, 5E049AA04
, 5E049AA07
, 5E049BA14
, 5E049BA30
, 5E070BA12
, 5E070BB01
引用特許:
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