特許

J-GLOBAL ID：202203007635466580

アルキニルシランの製造方法

発明者： 松本 和弘 ,  崔 準哲 ,  中島 裕美子 ,  佐藤 一彦 ,  青柳 圭哉 ,  河津 貴大
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人秀和特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-109156
公開番号（公開出願番号）：特開2022-022505
出願日： 2020年06月24日
公開日（公表日）： 2022年02月07日
要約：

【課題】アルキニルシランの簡便な製造方法を提供する。 【解決手段】金属錯体の存在下、下記式(a)で表されるシリルアルキノエートを脱炭酸させて下記式(b)で表されるアルキニルシランを生成する反応工程を含むことを特徴とするアルキニルシランの製造方法。 TIFF 2022022505000039.tif 24 170 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属錯体の存在下、下記式(a)で表されるシリルアルキノエートを脱炭酸させて下記式(b)で表されるアルキニルシランを生成する反応工程を含むことを特徴とするアルキニルシランの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/12 ,  C07F 7/10

FI (5件)：

C07F7/08 C ,  C07F7/08 G ,  C07F7/08 K ,  C07F7/12 Z ,  C07F7/10 N

Fターム (18件)：

4H039CA92 ,  4H039CG40 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ04 ,  4H049VQ07 ,  4H049VR24 ,  4H049VS28 ,  4H049VT04 ,  4H049VT06 ,  4H049VT16 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VV12 ,  4H049VV13 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• カルボシランの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2020-054124   出願人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 気相化学金属堆積のためのフッ素を含まない金属錯体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-539140   出願人：サントルナショナルドゥラルシェルシュシアンティフィック

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Chimia, 1985, 39, 53