特許
J-GLOBAL ID：202203007721448811
放射源プラズマチャンバにおける不安定状態を回避するためのシステム及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-521508
特許番号：特許第6985263号
出願日： 2016年11月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 レーザ生成プラズマ(LPP)極端紫外線(EUV)システムのLPP EUV放射源プラズマチャンバにおいて、ターゲット材料の液滴に衝突するレーザビームによって生成されたEUVエネルギーの量を、エネルギーディテクタにより検出すること、
前記生成されたEUVエネルギーの量に基づいて、エネルギー変動の強さを周波数の関数として示すパワースペクトル密度(PSD)グラフを作成し、このグラフにおいて、周波数が増加するとともに徐々に減少するPSDの曲線上に示される大きなエネルギースパイクを不安定な正弦波状態とみなし、この大きなエネルギースパイクを発見するために、公称周波数±ある帯域幅で動作し、入力としてPSDデータを受け取り、その周波数範囲に見合った振幅出力を与えるカルマンフィルタを用い、この振幅出力を時間に対してグラフ化し、この振幅出力が第1の閾値を超えることを検出し、
この検出によって、EUVエネルギーが不安定な正弦波状態であると、前記LPP EUVシステムのシステムコントローラによって決定すること、及び
前記ターゲット材料の液滴に対する前記レーザビームの焦点が前記LPP EUV放射源プラズマチャンバのY軸に沿って移動するように、前記システムコントローラにより前記LPP EUVシステムのフォーカス光学系に指示すること、を含み、
前記液滴の射出方向がX軸であり、前記レーザビームの照射方向がZ軸であるとして、前記Y軸は、前記X軸及びZ軸に直交する方向である、方法。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H05G 2/00 ( 200 6.01)
G03F 7/20 503
, H05G 2/00 K
, G03F 7/20 521
