特許
J-GLOBAL ID：202203008572797782
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
天野 一規
, 藤本 勝誠
, 池田 義典
, 小川 博生
, 石田 耕治
, 藤中 賢一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-240762
公開番号（公開出願番号）：特開2018-097125
特許番号：特許第7062874号
出願日： 2016年12月12日
公開日（公表日）： 2018年06月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(1-1)又は下記式(1-2)で表される第1構造単位及び上記第1構造単位とは異なる酸解離性基を含む第2構造単位を有する第1重合体と、 スルホン酸又はジスルホニルイミド酸を発生する第1感放射線性酸発生体と を含有し、 上記第1重合体における上記第1構造単位の含有割合が、上記第1重合体を構成する全構造単位に対して、10モル%以上70モル%以下であり、 上記第1感放射線性酸発生体が、多環構造を含む基を有し、かつ1又は複数のフッ素原子を有するアニオンを含む感放射線性樹脂組成物。(式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R2は、炭素数3~20の1価の炭化水素基である。nは、0~16の整数である。R3は、炭素数1~20の1価の炭化水素基であり、nが2以上の場合、複数のR3は、それぞれ独立して、炭素数1~20の1価の炭化水素基であるか、又は複数のR3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子又は炭素鎖と共に環員数3~20の脂環構造を構成する。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C08F 20/18 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/004 501
, C08F 20/18
, G03F 7/20 521
