単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史 , 正木克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-097347
公開番号（公開出願番号）：特開2015-214634
出願日： 2014年05月09日
公開日（公表日）： 2015年12月03日
要約：

【課題】保存安定性に優れ、又従来のアルカリ現像によるポジ型のパターン形成のみならず、有機溶剤現像におけるポジネガ反転の画像形成において、高溶解コントラスト、酸拡散制御、低ラフネスなどの諸特性が優れるフォトレジストを提供する。【解決手段】一般式(1)で示される単量体を含む重合体を使用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される単量体。

IPC (9件)：

C08F 220/28 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C07D 307/83 , C07D 307/935 , C07D 493/04 , C07D 495/04 , C08F 20/28

FI (9件)：

C08F220/28 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , C07D307/83 , C07D307/935 , C07D493/04 106A , C07D495/04 111 , C08F20/28

Fターム (93件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH20 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ18X , 2H125AJ42Y , 2H125AJ48Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM22P , 2H125AM27P , 2H125AM99P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN56P , 2H125AN68P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4C037QA04 , 4C037QA06 , 4C037VA02 , 4C037VA35 , 4C037VA38 , 4C071AA01 , 4C071BB01 , 4C071CC11 , 4C071CC12 , 4C071CC21 , 4C071DD13 , 4C071EE05 , 4C071EE15 , 4C071FF15 , 4C071FF17 , 4C071HH05 , 4C071HH08 , 4C071KK01 , 4C071LL03 , 4C071LL05 , 4C071LL07 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL75P , 4J100BA03S , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BC03P , 4J100BC03R , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09S , 4J100BC12Q , 4J100BC43P , 4J100BC48P , 4J100BC53P , 4J100BC65P , 4J100BC83P , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-064337 出願人：信越化学工業株式会社
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188853 出願人：日本電気株式会社
レジストパターンの製造方法、及びこれから得られるレジストパターン
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-150361 出願人：住友化学株式会社

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