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J-GLOBAL ID：202302280493116971   整理番号：23A2980459

化学増幅型レジストにおける酸発生剤の放射線分解機構および溶解挙動に与える影響の解明

Elucidation of radiation-induced degradation mechanism of photoacid generator in chemically amplified resist and their effects on dissolution kinetics

著者 (5件)： 津田嘉香 (大阪大 産科研) ,  室屋裕佐 (大阪大 産科研) ,  古澤孝弘 (大阪大 産科研) ,  池田卓也 (東京応化) ,  小室嘉崇 (東京応化)
資料名： アイソトープ・放射線研究発表会(Web)  (Annual Meeting on Radioisitopes and Radiation Researches (Web))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.1C03-05-01(J-STAGE)  発行年： 2023年 
JST資料番号： S0636C  ISSN： 2436-4487  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.はじめに.昨今、露光源の短波長化により、半導体のパターンが微細化したことで、パターンの欠陥の増加が問題になっている。欠陥を抑えるためには吸収光子の増加が必須であり、そのためにはより大量の酸発生剤が必要である。このため、酸発生剤のレジスト...【本文一部表示】

シソーラス用語： 光源 ,  電子照射 ,  電子ビーム ,  粘性 ,  薄膜 ,  半導体 ,  分子構造 ,  *溶解 ,  *添加剤 ,  光 ,  *レジスト ,  反応速度定数 ,  パルス放射線分解 ,  二次電子 ,  *酸発生剤 ,  機械的性質 ,  脂肪族ニトリル

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： アセトニトリル

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学増幅型レジスト ,  酸発生剤 ,  放射線分解 ,  溶解 ,  挙動