特許

J-GLOBAL ID：202303001527542865

プラズマによる対象物の処理方法およびシステム

発明者： 沖野 晃俊 ,  劉 智志 ,  森 結登 ,  中井 一輝
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (5件)： 山本 秀策 ,  森下 夏樹 ,  飯田 貴敏 ,  石川 大輔 ,  山本 健策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-167633
公開番号（公開出願番号）：特開2023-057888
出願日： 2021年10月12日
公開日（公表日）： 2023年04月24日
要約：

【課題】プラズマによる対象物の処理方法、およびその方法を実施するためのシステムの提供。 【解決手段】本開示は、プラズマによる対象物の処理方法を提供し、方法は、プラズマ発生装置の放電部内にガスを供給することと、放電部内でガスからプラズマを発生させるとともに、電磁波を放電部内に照射し、それによって、放電部内に配置された対象物をプラズマおよび電磁波に曝露することとを含む。放電部内で前記ガスからプラズマを発生させることは、大気圧下にある放電部内でガスからプラズマを発生させることを特徴とし得る。 【選択図】図4A

請求項（抜粋）：

プラズマによる対象物の処理方法であって、前記方法は、 プラズマ発生装置の放電部内にガスを供給することと、 前記放電部内で前記ガスからプラズマを発生させるとともに、電磁波を前記放電部内に照射し、それによって、前記放電部内に配置された対象物を前記プラズマおよび前記電磁波に曝露することと を含む、方法。

IPC (6件)：

H05H 1/24 ,  A61L 2/14 ,  A61L 2/10 ,  A61L 2/08 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12

FI (7件)：

H05H1/24 ,  A61L2/14 ,  A61L2/10 ,  A61L2/08 106 ,  B01J19/08 E ,  B01J19/12 B ,  B01J19/12 C

Fターム (41件)：

2G084AA07 ,  2G084AA25 ,  2G084BB03 ,  2G084BB04 ,  2G084BB05 ,  2G084CC03 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084CC15 ,  2G084CC19 ,  2G084CC21 ,  2G084CC23 ,  2G084CC34 ,  2G084DD15 ,  4C058BB06 ,  4C058BB09 ,  4C058DD07 ,  4C058DD11 ,  4C058KK02 ,  4C058KK05 ,  4C058KK06 ,  4C058KK32 ,  4G075AA30 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA33 ,  4G075CA34 ,  4G075CA36 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA05 ,  4G075EB31 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15