特許

J-GLOBAL ID：202303008826230165

DNA薄膜の製造方法

発明者： 松木 伸行 ,  有賀 克彦 ,  鯉沼 秀臣 ,  佐藤 知正 ,  森 泰蔵 ,  南 皓輔 ,  村田 朋大
出願人/特許権者： 学校法人神奈川大学 ,  国立研究開発法人物質・材料研究機構
代理人 (2件)： 正林 真之 ,  林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-086392
公開番号（公開出願番号）：特開2023-173873
出願日： 2022年05月26日
公開日（公表日）： 2023年12月07日
要約：

【課題】制御性に優れ、良好に薄膜化できるDNA薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】DNAを含むターゲット材料に可視レーザーを照射し、前記ターゲット材料に対向配置される基板の表面にDNA薄膜を形成する、DNA薄膜の製造方法。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

DNAを含むターゲット材料に可視レーザーを照射し、前記ターゲット材料に対向配置される基板の表面にDNA薄膜を形成する、DNA薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C07H 21/04 ,  C23C 14/28

FI (2件)：

C07H21/04 ,  C23C14/28

Fターム (11件)：

4C057AA30 ,  4C057BB05 ,  4C057DD01 ,  4C057MM04 ,  4C057MM08 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 情報記録素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-255647   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 光応答性DNA薄膜を用いたセンシング素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-154388   出願人：科学技術振興事業団