ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、それを用いたデバイスの製造方法。

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)： SK弁理士法人 , 奥野彰彦 , 伊藤寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-025487
公開番号（公開出願番号）：特開2023-122060
出願日： 2022年02月22日
公開日（公表日）： 2023年09月01日
要約：

【課題】感度に優れたレジスト組成物に用いるポリマーを提供することを課題とする。当該ポリマーを含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】オニウム塩構造を有するユニットAを含むポリマーであって、前記ユニットAが下記式(1)で示されるユニットであるポリマーとする。 JPEG 2023122060000103.jpg 59 153 (式(1)中、R 1 、L、Sp、X 1 - 、およびM 1 + は特定の構造をとる) 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

オニウム塩構造を有するユニットAを含むポリマーであって、前記ユニットAが下記式(1)で示されるユニットである、ポリマー。

IPC (4件)：

C08F 220/38 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/20

FI (5件)：

C08F220/38 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/20 501 , G03F7/20 521

Fターム (62件)：

2H197AB15 , 2H197CA02 , 2H197CA03 , 2H197CA09 , 2H197CA10 , 2H197HA03 , 2H197HA04 , 2H197HA05 , 2H197JA22 , 2H225AF39P , 2H225AF44P , 2H225AF71P , 2H225AH02 , 2H225AH31 , 2H225AJ12 , 2H225AJ42 , 2H225AJ70 , 2H225AN42P , 2H225AN54P , 2H225BA01P , 2H225CA12 , 2H225CB14 , 2H225CB18 , 2H225CC03 , 2H225CC15 , 2H225CD02 , 2H225CD06 , 4J100AB07R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03S , 4J100BA03T , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA05T , 4J100BA17P , 4J100BA50P , 4J100BA51P , 4J100BA56P , 4J100BA94R , 4J100BB05T , 4J100BB07P , 4J100BB07T , 4J100BB10P , 4J100BB10T , 4J100BC04T , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC43R , 4J100BC43S , 4J100BC43T , 4J100BC65P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312722 出願人：富士通株式会社

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