特許

J-GLOBAL ID：202303014728383670

プラズマ機能液製造装置及び方法並びに植物栽培プラント

発明者： 山縣 芳和 ,  中西 秀行 ,  小澤 茂樹 ,  沖野 晃俊 ,  末永 祐磨 ,  劉 智志 ,  大澤 泰樹 ,  岩澤 篤郎 ,  天野 有里子 ,  宇野 雄一
出願人/特許権者： ローレルバンクマシン株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学 ,  学校法人青葉学園 ,  国立大学法人神戸大学
代理人 (1件)： 清水 貴光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-040835
公開番号（公開出願番号）：特開2023-135560
出願日： 2022年03月15日
公開日（公表日）： 2023年09月28日
要約：

【課題】簡便な装置構成でプラズマガスを液体に導入するとともに活性種の分解を抑制するプラズマ機能液製造装置及び方法並びに植物栽培プラントを提供する。 【解決手段】プラズマ機能液製造装置10は、高周波電圧が印可される第1の電極21と、第1の電極21に空間を介して対向して配置され、アース24に接続された金属製の第2の電極22と、空間にプラズマ生成ガスを供給するガス供給路26aと、を備えているプラズマガス発生部20と、溶媒Sを貯留して第1の電極21及び第2の電極22を浸漬させるプラズマ機能液生成槽31を備えているプラズマ機能液生成部30と、を備えている。第1の電極21と第2の電極22との間に高周波電圧が印加されて空間内のプラズマ生成ガス中でプラズマを発生させて生成された活性種を含むプラズマガスが、第2の電極22を通過して気泡状態で溶媒Sに導入されて、プラズマ機能液Lが生成される構成とした。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

高周波電圧が印可される第1の電極と、前記第1の電極に空間を介して対向して配置され、アースに接続された金属製の多孔質部材と、前記空間にプラズマ生成ガスを供給するガス供給路と、を備えているプラズマガス発生部と、 溶媒を貯留して前記第1の電極及び多孔質部材を浸漬させるプラズマ機能液生成槽を備えているプラズマ機能液生成部と、 を備え、 前記第1の電極と前記第1の電極と対になる第2の電極である前記多孔質部材との間に高周波電圧が印加されて前記空間内のプラズマ生成ガス中でプラズマを発生させて生成された活性種を含むプラズマガスが、前記第2の電極を通過して気泡状態で前記溶媒に導入されて、プラズマ機能液が生成されることを特徴とするプラズマ機能液製造装置。

IPC (9件)：

C02F 1/68 ,  A01N 59/00 ,  A01P 1/00 ,  A01P 3/00 ,  B01F 23/231 ,  B01F 23/237 ,  B01F 25/45 ,  C02F 1/50 ,  A01G 31/00

FI (19件)：

C02F1/68 520B ,  A01N59/00 Z ,  A01P1/00 ,  A01P3/00 ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 510C ,  C02F1/68 530A ,  B01F23/231 ,  B01F23/2373 ,  B01F23/2375 ,  B01F25/45 ,  C02F1/50 531B ,  C02F1/50 531Q ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 531T ,  C02F1/50 531U ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550D ,  A01G31/00 601A

Fターム (12件)：

2B314MA11 ,  2B314MA23 ,  2B314MA46 ,  2B314PA13 ,  4G035AB07 ,  4G035AC26 ,  4H011AA01 ,  4H011AA02 ,  4H011BB18 ,  4H011DA12 ,  4H011DA21 ,  4H011DE15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-330473   出願人：シャープ株式会社