特許
J-GLOBAL ID:202303018437889548

DNA薄膜、DNA薄膜担持基板およびDNA薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 正林 真之 ,  林 一好
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2022-086391
公開番号(公開出願番号):特開2023-173872
出願日: 2022年05月26日
公開日(公表日): 2023年12月07日
要約:
【課題】平坦性に優れているDNA薄膜およびDNA薄膜担持基板、ならびに制御性に優れ、高い平坦性を有するDNA薄膜を良好に薄膜化できるDNA薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】表面粗さ(Rms)が10.0nm以下である、DNA薄膜。 【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面粗さ(Rms)が10.0nm以下である、DNA薄膜。
IPC (2件):
C07H 21/04 ,  B32B 9/02
FI (2件):
C07H21/04 Z ,  B32B9/02
Fターム (31件):
4C057BB05 ,  4C057CC01 ,  4C057MM04 ,  4F100AA04A ,  4F100AB11B ,  4F100AH02A ,  4F100AH03A ,  4F100AT00A ,  4F100BA01 ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DD07A ,  4F100EH66 ,  4F100JC00A ,  4F100JK14A ,  4G075AA13 ,  4G075AA24 ,  4G075BB02 ,  4G075CA02 ,  4G075CA33 ,  4G075CA34 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB31 ,  4G075EC25 ,  4G075FA12 ,  4G075FB06 ,  4G075FC04
引用特許:
出願人引用 (2件)

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