特許
J-GLOBAL ID:202303018437889548
DNA薄膜、DNA薄膜担持基板およびDNA薄膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
正林 真之
, 林 一好
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2022-086391
公開番号(公開出願番号):特開2023-173872
出願日: 2022年05月26日
公開日(公表日): 2023年12月07日
要約:
【課題】平坦性に優れているDNA薄膜およびDNA薄膜担持基板、ならびに制御性に優れ、高い平坦性を有するDNA薄膜を良好に薄膜化できるDNA薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】表面粗さ(Rms)が10.0nm以下である、DNA薄膜。
【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面粗さ(Rms)が10.0nm以下である、DNA薄膜。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (31件):
4C057BB05
, 4C057CC01
, 4C057MM04
, 4F100AA04A
, 4F100AB11B
, 4F100AH02A
, 4F100AH03A
, 4F100AT00A
, 4F100BA01
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100DD07A
, 4F100EH66
, 4F100JC00A
, 4F100JK14A
, 4G075AA13
, 4G075AA24
, 4G075BB02
, 4G075CA02
, 4G075CA33
, 4G075CA34
, 4G075CA36
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB31
, 4G075EC25
, 4G075FA12
, 4G075FB06
, 4G075FC04
引用特許:
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